Premium Sapphire Lift Pins Pojedynczy kryształ Al₂O₃ Wafer Lift Pin
Parametry techniczne
| Skład chemiczny | Al2O3 |
| Twardość | 9 w skali Mohsa |
| Natura optyczna | Jednoosiowy |
| Współczynnik załamania światła | 1,762-1,770 |
| Dwójłomność | 0,008-0,010 |
| Dyspersja | Niski, 0,018 |
| Połysk | Szklisty |
| Pleochroizm | Umiarkowany do silnego |
| Średnica | 0,4 mm-30 mm |
| Tolerancja średnicy | 0,004 mm-0,05 mm |
| długość | 2mm-150mm |
| tolerancja długości | 0,03 mm-0,25 mm |
| Jakość powierzchni | 40/20 |
| Zaokrąglenie powierzchni | RZ0,05 |
| Niestandardowy kształt | oba końce płaskie, jeden koniec czerwony, oba końce czerwony, kołki siodłowe i kształty specjalne |
Główne cechy
1. Wyjątkowa twardość i odporność na zużycie: Dzięki twardości w skali Mohsa wynoszącej 9, ustępując jedynie diamentowi, Sapphire Lift Pins wykazują właściwości zużycia, które znacznie przewyższają tradycyjne alternatywy z węglika krzemu, ceramiki glinowej lub stopów metali. Ta ekstremalna twardość przekłada się na znacznie zmniejszoną generację cząstek i wymagania konserwacyjne, a okres eksploatacji jest zazwyczaj 3-5 razy dłuższy niż w przypadku konwencjonalnych materiałów w porównywalnych zastosowaniach.
2. Wyjątkowa odporność na wysokie temperatury: Zaprojektowane tak, aby wytrzymać ciągłą pracę w temperaturach przekraczających 1000°C bez degradacji, sworznie podnoszące Sapphire Lift Pins zachowują stabilność wymiarową i wytrzymałość mechaniczną w najbardziej wymagających procesach cieplnych. Dzięki temu są szczególnie cenne w krytycznych zastosowaniach, takich jak chemiczne osadzanie z fazy gazowej (CVD), chemiczne osadzanie z fazy gazowej związków metaloorganicznych (MOCVD) i systemy wyżarzania w wysokiej temperaturze, w których niedopasowanie rozszerzalności cieplnej może mieć negatywny wpływ na wydajność procesu.
3. Bezwładność chemiczna: Struktura monokrystalicznego szafiru wykazuje niezwykłą odporność na atak kwasu HF, chemikaliów na bazie chloru i innych agresywnych gazów procesowych powszechnie spotykanych w produkcji półprzewodników. Ta stabilność chemiczna zapewnia stałą wydajność w środowiskach plazmowych i zapobiega powstawaniu defektów powierzchni, które mogłyby prowadzić do zanieczyszczenia wafli.
4. Niskie zanieczyszczenie cząsteczkowe: Wykonane z bezusterkowych, wysokiej czystości kryształów szafirowych (zwykle >99,99%), te kołki podnoszące wykazują minimalne uwalnianie cząsteczek nawet po dłuższym użytkowaniu. Ich nieporowata struktura powierzchni i polerowane wykończenia spełniają najbardziej rygorystyczne wymagania dotyczące pomieszczeń czystych, co bezpośrednio przyczynia się do poprawy wydajności procesu w zaawansowanej produkcji półprzewodników węzłowych.
Obróbka o wysokiej precyzji: Wykorzystując zaawansowane techniki szlifowania diamentowego i obróbki laserowej, Sapphire Lift Pins mogą być produkowane z tolerancjami submikronowymi i wykończeniem powierzchni poniżej 0,05 μm Ra. Niestandardowe geometrie, w tym profile stożkowe, specjalne konfiguracje końcówek i zintegrowane funkcje wyrównywania, mogą być zaprojektowane w celu rozwiązania konkretnych problemów z obsługą płytek w sprzęcie produkcyjnym nowej generacji.
Podstawowe zastosowania
1. Produkcja półprzewodników: Sapphire Lift Pins odgrywają kluczową rolę w zaawansowanych systemach przetwarzania płytek, zapewniając niezawodne wsparcie i precyzyjne pozycjonowanie podczas procesów fotolitografii, trawienia, osadzania i kontroli. Ich stabilność termiczna i chemiczna sprawia, że są one szczególnie cenne w narzędziach litograficznych EUV i zaawansowanych zastosowaniach opakowaniowych, w których stabilność wymiarowa w skali nanometrowej jest niezbędna.
2. Epitaksja LED (MOCVD): W azotku galu (GaN) i pokrewnych półprzewodnikowych systemach epitaksjalnego wzrostu, Sapphire Lift Pins zapewniają stabilne podparcie wafli w temperaturach często przekraczających 1000°C. Ich dopasowane właściwości rozszerzalności cieplnej z podłożami szafirowymi minimalizują wyginanie się wafli i powstawanie poślizgu podczas procesu epitaksjalnego wzrostu.
3. Przemysł fotowoltaiczny: Wysokowydajna produkcja ogniw słonecznych korzysta z unikalnych właściwości szafiru w procesach dyfuzji w wysokiej temperaturze, spiekania i osadzania cienkich warstw. Odporność pinów na zużycie jest szczególnie cenna w środowiskach produkcji masowej, w których żywotność komponentów bezpośrednio wpływa na koszty produkcji.
4. Precyzyjna optyka i przetwarzanie elektroniki: Oprócz zastosowań półprzewodnikowych, Sapphire Lift Pins znajdują zastosowanie w obsłudze delikatnych elementów optycznych, urządzeń MEMS i specjalistycznych podłoży, w których przetwarzanie bez zanieczyszczeń i zapobieganie zarysowaniom są krytyczne. Ich właściwości izolacji elektrycznej sprawiają, że idealnie nadają się do zastosowań obejmujących urządzenia wrażliwe na ładunki elektrostatyczne.
Usługi XKH w zakresie kołków podnoszących szafirowych
XKH zapewnia kompleksowe wsparcie techniczne i dostosowane rozwiązania dla sworzni podnoszących Sapphire:
1. Usługi rozwoju niestandardowego
· Wsparcie w zakresie dostosowywania wymiarów, geometrii i obróbki powierzchni
· Rekomendacje dotyczące doboru materiałów i optymalizacji parametrów technicznych
· Współpraca przy projektowaniu produktów i weryfikacji symulacji
2. Możliwości precyzyjnej produkcji
· Obróbka o wysokiej precyzji z tolerancjami kontrolowanymi w zakresie ±1μm
· Specjalne zabiegi obejmujące polerowanie na lustro i fazowanie krawędzi
· Opcjonalne rozwiązania modyfikacji powierzchni, takie jak powłoki antyadhezyjne
3. System zapewnienia jakości
· Ścisłe przestrzeganie kontroli materiałów przychodzących i kontroli procesów
· Pełnowymiarowa inspekcja optyczna i analiza morfologii powierzchni
· Dostarczanie raportów z testów wydajności produktu
4. Usługi łańcucha dostaw
· Szybka dostawa produktów standardowych
· Dedykowane zarządzanie zapasami dla kluczowych kont
5. Wsparcie techniczne
· Doradztwo w zakresie rozwiązań aplikacyjnych
· Szybka reakcja posprzedażowa
Naszym celem jest dostarczanie wysokiej jakości produktów Sapphire Lift Pins oraz świadczenie profesjonalnych usług technicznych w celu spełnienia rygorystycznych wymagań branży półprzewodników, diod LED i innych zaawansowanych branż.
