Podłoże SiC typu P, płytka SiC o średnicy 2 cali, nowy produkt

Krótki opis:

2-calowy wafer z węglika krzemu (SiC) typu P, w politypie 4H lub 6H. Posiada podobne właściwości jak wafer z węglika krzemu (SiC) typu N, takie jak wysoka odporność na temperaturę, wysoka przewodność cieplna, wysoka przewodność elektryczna itp. Podłoże SiC typu P jest powszechnie stosowane do produkcji urządzeń mocy, zwłaszcza tranzystorów bipolarnych z izolowaną bramką (IGBT). Projektowanie tranzystorów IGBT często obejmuje złącza PN, gdzie SiC typu P może być korzystne dla sterowania działaniem tych urządzeń.


Cechy

Podłoża z węglika krzemu typu P są powszechnie stosowane do produkcji urządzeń mocy, takich jak tranzystory bipolarne z bramką izolacyjną (IGBT).

IGBT = MOSFET + BJT, czyli przełącznik włącz/wyłącz. MOSFET = IGFET (lampa polowa z półprzewodnikiem metalowo-tlenkowym lub tranzystor polowy z izolowaną bramką). BJT (tranzystor bipolarny, znany również jako tranzystor), bipolarny oznacza, że ​​w procesie przewodzenia biorą udział dwa rodzaje nośników elektronów i dziur, zazwyczaj w przewodzeniu bierze udział złącze PN.

Dwucalowa płytka z węglika krzemu (SiC) typu p jest wykonana w politypie 4H lub 6H. Posiada właściwości podobne do płytek z węglika krzemu (SiC) typu n, takie jak wysoka odporność na temperaturę, wysoka przewodność cieplna i wysoka przewodność elektryczna. Podłoża SiC typu p są powszechnie stosowane w produkcji urządzeń mocy, w szczególności tranzystorów bipolarnych z izolowaną bramką (IGBT). Projektowanie tranzystorów IGBT zazwyczaj obejmuje złącza PN, gdzie SiC typu p jest korzystne dla sterowania pracą urządzenia.

str. 4

Szczegółowy diagram

IMG_1595
IMG_1594

  • Poprzedni:
  • Następny:

  • Napisz tutaj swoją wiadomość i wyślij ją do nas