3-calowy, półizolacyjny, wysokiej czystości (HPSI) wafel SiC, 350um, klasa obojętna, klasa premium
Aplikacja
Płytki HPSI SiC odgrywają kluczową rolę w tworzeniu urządzeń zasilających nowej generacji, które są wykorzystywane w różnych zastosowaniach o wysokiej wydajności:
Systemy konwersji mocy: Płytki SiC służą jako rdzeń urządzeń mocy, takich jak tranzystory MOSFET mocy, diody i tranzystory IGBT, które są kluczowe dla wydajnej konwersji mocy w obwodach elektrycznych. Komponenty te można znaleźć w wysokowydajnych zasilaczach, napędach silników i falownikach przemysłowych.
Pojazdy elektryczne (EV):Rosnące zapotrzebowanie na pojazdy elektryczne wymusza stosowanie bardziej wydajnych energoelektroniki, a wafle SiC przodują w tej transformacji. W układach napędowych pojazdów elektrycznych płytki te zapewniają wysoką wydajność i szybkie możliwości przełączania, co przyczynia się do krótszego czasu ładowania, większego zasięgu i lepszej ogólnej wydajności pojazdu.
Energia odnawialna:W systemach energii odnawialnej, takich jak energia słoneczna i wiatrowa, płytki SiC są stosowane w falownikach i konwerterach, które umożliwiają bardziej wydajne przechwytywanie i dystrybucję energii. Wysoka przewodność cieplna i doskonałe napięcie przebicia SiC zapewniają, że systemy te działają niezawodnie nawet w ekstremalnych warunkach środowiskowych.
Automatyka i Robotyka Przemysłowa:Wysokowydajna energoelektronika w systemach automatyki przemysłowej i robotyce wymaga urządzeń zdolnych do szybkiego przełączania, obsługi dużych obciążeń mocy i pracy pod dużym obciążeniem. Półprzewodniki na bazie SiC spełniają te wymagania, zapewniając wyższą wydajność i solidność, nawet w trudnych warunkach pracy.
Systemy telekomunikacyjne:W infrastrukturze telekomunikacyjnej, gdzie krytyczna jest wysoka niezawodność i wydajna konwersja energii, płytki SiC znajdują zastosowanie w zasilaczach i przetwornikach DC-DC. Urządzenia SiC pomagają zmniejszyć zużycie energii i zwiększyć wydajność systemów w centrach danych i sieciach komunikacyjnych.
Zapewniając solidną podstawę dla zastosowań wymagających dużej mocy, płytka HPSI SiC umożliwia rozwój energooszczędnych urządzeń, pomagając przemysłowi w przejściu na bardziej ekologiczne i zrównoważone rozwiązania.
Właściwości
operacja | Stopień produkcyjny | Stopień badawczy | Stopień fikcyjny |
Średnica | 75,0 mm ± 0,5 mm | 75,0 mm ± 0,5 mm | 75,0 mm ± 0,5 mm |
Grubość | 350 µm ± 25 µm | 350 µm ± 25 µm | 350 µm ± 25 µm |
Orientacja wafla | Na osi: <0001> ± 0,5° | Na osi: <0001> ± 2,0° | Na osi: <0001> ± 2,0° |
Gęstość mikrorurki dla 95% płytek (MPD) | ≤ 1 cm⁻² | ≤ 5 cm⁻² | ≤ 15 cm⁻² |
Oporność elektryczna | ≥ 1E7 Ω·cm | ≥ 1E6 Ω·cm | ≥ 1E5 Ω·cm |
Domieszka | Niedomieszkowany | Niedomieszkowany | Niedomieszkowany |
Podstawowa orientacja płaska | {11-20} ± 5,0° | {11-20} ± 5,0° | {11-20} ± 5,0° |
Podstawowa długość płaska | 32,5 mm ± 3,0 mm | 32,5 mm ± 3,0 mm | 32,5 mm ± 3,0 mm |
Dodatkowa długość płaska | 18,0 mm ± 2,0 mm | 18,0 mm ± 2,0 mm | 18,0 mm ± 2,0 mm |
Orientacja płaska wtórna | Si stroną skierowaną do góry: 90° CW od pierwotnego płaskiego podłoża ± 5,0° | Si stroną skierowaną do góry: 90° CW od pierwotnego płaskiego podłoża ± 5,0° | Si stroną skierowaną do góry: 90° CW od pierwotnego płaskiego podłoża ± 5,0° |
Wykluczenie krawędzi | 3 mm | 3 mm | 3 mm |
LTV/TTV/łuk/osnowa | 3 µm / 10 µm / ±30 µm / 40 µm | 3 µm / 10 µm / ±30 µm / 40 µm | 5 µm / 15 µm / ±40 µm / 45 µm |
Chropowatość powierzchni | Powierzchnia C: polerowana, powierzchnia Si: CMP | Powierzchnia C: polerowana, powierzchnia Si: CMP | Powierzchnia C: polerowana, powierzchnia Si: CMP |
Pęknięcia (sprawdzone światłem o dużej intensywności) | Nic | Nic | Nic |
Płytki sześciokątne (kontrolowane światłem o dużej intensywności) | Nic | Nic | Powierzchnia skumulowana 10% |
Obszary wielotypowe (sprawdzane przy świetle o dużej intensywności) | Powierzchnia skumulowana 5% | Powierzchnia skumulowana 5% | Powierzchnia skumulowana 10% |
Zadrapania (sprawdzone przy świetle o dużej intensywności) | ≤ 5 rys, łączna długość ≤ 150 mm | ≤ 10 rys, łączna długość ≤ 200 mm | ≤ 10 rys, łączna długość ≤ 200 mm |
Odpryski krawędzi | Żadne nie jest dozwolone. Szerokość i głębokość ≥ 0,5 mm | 2 dozwolone, ≤ 1 mm szerokości i głębokości | Dopuszczalne 5, szerokość i głębokość ≤ 5 mm |
Zanieczyszczenie powierzchni (sprawdzane przy użyciu światła o dużej intensywności) | Nic | Nic | Nic |
Kluczowe zalety
Doskonała wydajność cieplna: Wysoka przewodność cieplna SiC zapewnia efektywne odprowadzanie ciepła w urządzeniach zasilających, umożliwiając im pracę przy wyższych poziomach mocy i częstotliwościach bez przegrzania. Przekłada się to na mniejsze, bardziej wydajne systemy i dłuższą żywotność.
Wysokie napięcie przebicia: Dzięki szerszemu pasmu wzbronionemu w porównaniu z krzemem, płytki SiC nadają się do zastosowań wysokonapięciowych, co czyni je idealnymi do elementów energoelektronicznych, które muszą wytrzymywać wysokie napięcia przebicia, np. w pojazdach elektrycznych, systemach zasilania sieciowego i systemach energii odnawialnej.
Mniejsze straty mocy: Niska rezystancja włączenia i duże prędkości przełączania urządzeń SiC powodują zmniejszenie strat energii podczas pracy. To nie tylko poprawia wydajność, ale także zwiększa ogólną oszczędność energii systemów, w których są one stosowane.
Zwiększona niezawodność w trudnych warunkach: Solidne właściwości materiału SiC pozwalają na pracę w ekstremalnych warunkach, takich jak wysokie temperatury (do 600°C), wysokie napięcia i wysokie częstotliwości. Dzięki temu płytki SiC nadają się do wymagających zastosowań przemysłowych, motoryzacyjnych i energetycznych.
Efektywność energetyczna: Urządzenia SiC oferują wyższą gęstość mocy niż tradycyjne urządzenia na bazie krzemu, zmniejszając rozmiar i wagę systemów energoelektronicznych, jednocześnie poprawiając ich ogólną wydajność. Prowadzi to do oszczędności kosztów i mniejszego wpływu na środowisko w zastosowaniach takich jak energia odnawialna i pojazdy elektryczne.
Skalowalność: 3-calowa średnica i precyzyjne tolerancje produkcyjne płytki HPSI SiC zapewniają, że jest ona skalowalna do produkcji masowej, spełniając zarówno wymagania badawcze, jak i produkcyjne.
Wniosek
Płytka HPSI SiC o średnicy 3 cali i grubości 350 µm ± 25 µm to optymalny materiał do następnej generacji wysokowydajnych urządzeń energoelektronicznych. Unikalne połączenie przewodności cieplnej, wysokiego napięcia przebicia, niskich strat energii i niezawodności w ekstremalnych warunkach sprawia, że jest to niezbędny element do różnych zastosowań w konwersji energii, energii odnawialnej, pojazdach elektrycznych, systemach przemysłowych i telekomunikacji.
Ta płytka SiC jest szczególnie odpowiednia dla branż pragnących osiągnąć wyższą wydajność, większe oszczędności energii i większą niezawodność systemu. W miarę ciągłego rozwoju technologii energoelektroniki, płytki HPSI SiC stanowią podstawę do rozwoju energooszczędnych rozwiązań nowej generacji, napędzając przejście do bardziej zrównoważonej, niskoemisyjnej przyszłości.